蒸着技術、スリット加工、ケーピーセデュースで高品質な商品を提供する東レＫＰフィルム
- コンデンサ用蒸着フィルム
- 電磁波シールド用蒸着フィルム
- プリント基板用蒸着フィルム
- 極薄箔転写用蒸着フィルム
- マイクロフォン振動板用蒸着フィルム
- 電線用蒸着フィルム
- 装飾用蒸着フィルム
- 宇宙用特殊蒸着ポリイミドフィルム
- 電線用耐熱コーティングフィルム
- コンデンサ用マスキングテープ
- 耐熱ホットメルトテープ
蒸着 - EVAPORATION
蒸着では、不可能と言われていた20000Å（2ミクロン）の厚膜蒸着が可能。
薄膜蒸着
コンデンサー蒸着で培った技術を応用し、薄膜基材への金属加工が可能です。超極薄フィルム0.9μmPET、1.2μmPPS、2.5μmPPに加えて、6.0μｍＣｕ箔などフィルムのみならず、他社には出来ない薄膜基材（フィルム、金属箔）への蒸着加工を実現しています。
また、基材（フィルム、金属箔）のみならず、蒸着膜厚も高精度にコントロールできます。非常に精度管理が難しいとされる蒸着膜を非常に薄いレベルでコントロールし、可視光線の透過、半透過等のコントロールにより光学用途への展開が可能です。
パターン蒸着 金属面積大
金属蒸着面に特殊な加工を行い、パターン形成を施した蒸着が可能です。目的に応じ、多種多彩なパターンに対応出来ます。
パターン蒸着 金属面積小
コンデンサーフィルムのパターン蒸着で培った技術を活用し、超高精細パターン蒸着を実現。印刷パターンはスクェア、ダイアモンド、メッシュ模様など、高精細ピッチ（0.2mm×0.2mmサイズ）のパターン蒸着で可視光線透過性を活用しての電磁波シールド用途、無線ＬＡＮなどのアンテナ回路への展開を実現します。
貴金属蒸着
電気特性の優れている貴金属蒸着にも対応いたします。
高沸点金属蒸着
ウルトラパワー出力によるＥＢ方式蒸着で、従来の蒸着設備では蒸着不可能であった高沸点金属（チタン、ニッケル、酸化チタン等）、セラミック（珪素）の蒸着を技術を開発。
チタン、ニッケル等は携帯電話、デジカメ等向けの超小型マイクロフォンの振動板用途で極薄基材（1.2μｍ）とあわせて採用頂いており、酸素プラズマを応用した酸化チタンの蒸着では可視光線透過率コントロール技術を付加し、パスポート、クレジットカード、商品券等の偽造防止ホログラム用透明蒸着として、あるいは太陽電池用透明蒸着として研究・開発を進めております。
セラミック蒸着
高温条件での加工が必要な金属酸化物蒸着も可能です。
主なセラミックとして、誘電性をもったチタン酸バリウムや半導体でもある酸化亜鉛があります。
高密着力蒸着
永年培った蒸着技術を基に、プリント基板用途にも対応可能な高密着力蒸着が可能。
素材、金属にもよりますが、cmあたり1kgに近い所まで技術は進歩しています。
超低密着力蒸着
密着力をコントロールする技術を応用し、剥離・転写用途へ利用可能な低密着力での蒸着が可能。
多層蒸着（異種金属）
蒸着金属上に、密着力を落とす事無く異種金属の多層蒸着が可能です。
例えば、銅蒸着上に、防錆目的でのニッケル蒸着、はんだ性改善の錫蒸着等。
宇宙用特殊アルミ蒸着
2010年5月に種子島から打ち上げられた宇宙航空研究開発機構(JAXA)のH-ⅡAロケットには、小型ソーラー電力セイル実証機「イカロス」が搭載されております。
イカロスの宇宙セイルは、1辺が14mにも及ぶ巨大なセイル(帆)であり、JAXA開発の特殊ポリイミド膜(8ミクロン)に当社が宇宙用特殊アルミ蒸着を施したものです。
このように当社の誇る蒸着膜形成技術は地球の大気圏内だけでなく、宇宙でも高く評価されています。
JAXAホームページ
http://www.jaxa.jp/
